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麥瑞特電纜材料(昆山)有限公司
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專業(yè)生產(chǎn)電纜繞包材料與填充材料

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產(chǎn)品分類

Product classification

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軸裝PI復合膜
 

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產(chǎn)品詳情

17 軸裝PI復合膜.png

1. ?核心定義?

?軸裝PI復合膜?是一種基于?垂直多軸分層復合技術(shù)?制備的聚酰亞胺基多功能薄膜材料,通過軸裝設備將PI基膜與金屬箔、纖維增強層、功能涂層等異質(zhì)材料逐層堆疊,并利用熱熔/熱壓工藝實現(xiàn)高強度界面鍵合。其核心特征包括:

  • ?垂直梯度結(jié)構(gòu)?:從底層(力學增強層)到頂層(功能防護層)的梯度性能設計;

  • ?多維度增強?:螺旋纏繞(抗剪切)與環(huán)向纏繞(抗拉伸)協(xié)同強化;

  • ?超薄集成?:總厚度可低至10μm,層數(shù)可達5-10層(單層厚度1-5μm)。

2. ?工藝原理與設備?

(1)?軸裝復合系統(tǒng)架構(gòu)?

模塊

技術(shù)參數(shù)/功能

?垂直多軸組?

-   主基膜軸(PI膜)+ 輔料軸×4(銅箔/碳纖維/陶瓷涂層)
  - 軸間距≤30mm,同步精度±0.02mm/m

?動態(tài)熱壓塔?

-   分層溫控(底層350℃→中層280℃→頂層150℃)
  - 真空熱壓(壓力0.1-10MPa,真空度≤10?3 Pa)

?張力協(xié)同系統(tǒng)?

-   磁懸浮閉環(huán)張力控制(精度±0.01N)
  - 膜材延展率補償算法(應變誤差<0.05%)

?在線檢測單元?

-   激光干涉測厚(精度±0.05μm)
  - 高光譜成像(識別層間異物≥1μm)

(2)?工藝流程?

  1. ?基膜預處理?

    • PI膜等離子活化(Ar/O?混合氣體,功率800W),表面能提升至60mN/m;

    • 涂覆納米SiO?/PI雜化熱熔膠(熔點250-300℃)。

  2. ?軸裝逐層復合?

    • ?底層?:PI膜+碳纖維網(wǎng)(螺旋纏繞±45°,張力5N);

    • ?中間層?:PI/銅箔復合(環(huán)向纏繞90°,張力2N);

    • ?頂層?:PI+氟化防護涂層(靜電噴涂,厚度1μm)。

  3. ?梯度熱壓鍵合?

    • 底層:350℃/5MPa,熔融滲透碳纖維孔隙;

    • 頂層:150℃/0.5MPa,定型防護層;

    • 真空排氣(微孔尺寸<0.1μm)。

  4. ?冷卻定型?

    • 梯度降溫(10℃/min),翹曲度<0.01mm/m;

    • 曲率自適應收卷(動態(tài)調(diào)節(jié)半徑0.5-5mm)。

3. ?性能對比與突破?

性能指標

常規(guī)PI復合膜

軸裝PI復合膜

?層間結(jié)合力?

4-6MPa(膠粘劑依賴)

10-18MPa(熱熔滲透+機械互鎖)

?面內(nèi)導熱系數(shù)?

0.2-0.5W/(m·K)(各向同性)

1.5-3W/(m·K)(碳纖維定向?qū)幔?/p>

?耐溫交變性?

-196~260℃(200次循環(huán))

-269~450℃(1000次循環(huán)無分層)

?面密度?

≥25g/m2(5層結(jié)構(gòu))

≤15g/m2(10層超薄復合)

4. ?典型應用場景?

(1)?深空探測可展開天線?

  • ?復合結(jié)構(gòu)?

    • 底層:PI/碳纖維(抗拉強度>800MPa);

    • 中層:PI/銅網(wǎng)格(方阻<0.1Ω/□);

    • 頂層:PI/原子氧防護涂層(侵蝕率<1μg/cm2·h)。

  • ?性能?

    • 折疊-展開壽命>1萬次(R=0.2mm),面密度18g/m2;

    • 耐-180℃~150℃交變(月球極區(qū)環(huán)境模擬)。

(2)?高功率柔性散熱基板?

  • ?納米復合設計?

    • 軸裝復合PI/垂直石墨烯(面內(nèi)導熱>120W/(m·K));

    • 銅微柱陣列嵌入(熱通量>500W/cm2)。

  • ?應用指標?

    • 5G射頻芯片封裝(厚度50μm,熱阻<0.5℃·cm2/W);

    • 彎折半徑0.3mm下性能無衰減。

(3)?固態(tài)電池雙極板封裝?

  • ?層構(gòu)設計?

    • 導電層:PI/不銹鋼箔復合(接觸電阻<1mΩ·cm2);

    • 密封層:PI/玻璃陶瓷共熔(氦泄漏率<10?? Pa·m3/s)。

  • ?耐久性?

    • 耐電解液腐蝕(80℃, 6個月),膨脹率<0.1%;

    • 循環(huán)壓力載荷>10?次(0-10MPa)。

5. ?技術(shù)挑戰(zhàn)與創(chuàng)新方案?

挑戰(zhàn)點

解決方案

驗證指標

?層間熱應力累積?

仿生梯度CTE設計(層間CTE差<0.5ppm/℃)

熱循環(huán)后分層率<0.005%

?超薄層對位偏移?

激光摩爾紋實時糾偏(分辨率0.1μm)

100m卷長累積偏移<2μm

?高溫界面氧化?

原位生成Al?O?阻隔層(ALD沉積,厚度5nm)

400℃氧化增重<0.01mg/cm2

?環(huán)?;厥针y題?

動態(tài)共價鍵PI(200℃可解聚回收率>95%)

回收材料性能保留率>90%

6. ?前沿研究方向?

  • ?4D智能響應膜?

    • 形狀記憶PI+光熱石墨烯,太陽光觸發(fā)自展開(形變率>300%);

    • 應用于火星基地可重構(gòu)輻射屏蔽層。

  • ?量子復合膜?

    • PI膜內(nèi)嵌入量子點/碳納米管異質(zhì)結(jié),同步實現(xiàn)電磁屏蔽(SE>60dB)與壓力傳感(靈敏度0.1kPa?1)。

  • ?AI全流程優(yōu)化?

    • 數(shù)字孿生模擬熱壓應力場,實時調(diào)控工藝參數(shù)(生產(chǎn)良率>99.8%);

深度學習預測材料壽命(誤差<5%)。



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